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管式二合一PECVD設備

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管式二合一PECVD設備

AlO+SiN薄膜沉積。


設備名稱 Equipment Name

管式二合一PECVD設備  Horizontal PECVD (Two-In-One)

設備型號 Equipment Model

PD-520/PD-520L/PD-520MAX

設備用途 Equipment Application

AlO+SiN薄膜沉積。

AlOx+SiN deposition.


技術特點  Features

1、AlOx+SiN二合一同管完成,減少工藝環(huán)節(jié),有效提升良率、降低碎片率。

The AIOx & SiN layers can be coated in the same furnace tube which helps in reducing the process steps,improving the yield and lowering the breakage rate effectively.  

2、單機產(chǎn)能優(yōu)越的二合一配置方案。
Optimal throughout solution: two-in-one configuration. 


設備參數(shù)  Parameters


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